2016年ICPT聚会（International Conference onPlanarization/CMP Technology）于10月17-19日在北京友谊宾馆盛大召开。。。此次聚会是化学机械抛光（CMP）清静坦化手艺国际交流的盛会，，，，来自天下各地的科研事情者和工程师齐聚一堂，，，，配合探讨平展化历程中的要害问题，，，，举行普遍的手艺交流和信息共享。。；Ｗ鹆弊魑舜尉刍岬淖晔拗叹柿料。。。国家02专项总师叶甜春所长、ICPT 2016 大会主席暨尊龙凯时董事长路新春教授等出席聚会并讲话，，，，中国平展化同盟秘书长石瑛主持了开幕式。。。
本次聚会包括了3个特邀报告，，，，划分是来自中芯国际的 Tzu Chiang Yu 作的题为《从代工厂角度看中国集成电路工业》、台积电的 Chris Chern 作的题为《CMP 抛光液质料生长新动态》以及日本荏原公司的 Tsujimura 作的题为《半导体生长带来的手艺立异》，，，，以及8场专题钻研会，，，，包括33篇口头报告和41篇张贴报告。。。与会职员就半导体中的CMP应用、新兴CMP和集成、CMP的缺陷、洗濯、建模，，，，CMP机理研究，，，，CMP装备、耗材等等诸多前沿问题举行了普遍而深入的手艺交流和讨论。。。
此次聚会是ICPT大会第一次在中国大陆召开，，，，参会人数约莫400人，，，，凌驾以往任何一届，，，，其中外洋人士凌驾200人，，，，大会受到了海内外嘉宾的一致好评。。。为了办妥此次大会，，，，路新春教授率领清华青年西席和学生团队以及尊龙凯时事情职员做了起劲的准备，，，，最终团队以饱满的事情热情、高效的事情质量，，，，精彩地完成了本次聚会各项事情。。。通过此次聚会，，，，极大地拓展了公司在海内外CMP行业的影响力，，，，也充分展现了尊龙凯时人高昂向上的新风貌！
